万士和
产品描述
宽带260-520nm
紫外带宽膜应用于半导体装备，如光刻机、晶圆缺陷检测设备等，典型应用波长为193nm，248nm，266nm，355nm，这些波长应用需要将膜层材料的吸收控制在理论极限水平，且所需膜系种类繁杂，对镀膜设备及工艺能力提出更高挑战。
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公司占地面积约18000平米，拥有标准无尘厂房3800平米。主品主要检测设备由美国引进，用于晶片加工设备主要通过自主开发，或合作开发制造。融入了万士和独特工艺技术，保证了产品质量稳定。公司建立了IS9001质量体系标准化体系，检测手段齐全，采用国际检测标准进行产品检验。
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